(1)抛光机用研磨盘的研磨修整
1)研磨盘的对研采用三块或两块平板互研原理,在研磨机上进行。研磨时,在上盘涂以适量的研磨剂,上盘浮压而下盘转动,在摩擦力作用下,上下盘作同向转动,同时推动上盘悬臂绕立柱摆动,摆幅根据两盘凹凸情况决定。
2)用校正环研磨修整研磨盘见图。当研磨盘呈凸形时,校正环向中心移动,反之向外移动;如果呈波纹形,则一环向中心,一环向外侧移动,另一环保持原位。校正环的移动量一般不超过5mm。也有采用外圆带齿的校正环,依靠装卸中心齿轮,使校正环得到正转或反转来修整研磨盘。
(2)平板研磨及其质量鉴别
1)粗研主要去除机械加工痕迹,提高吻合性与平面度。选用磨料为180°-W28粒度的刚玉,以煤油为辅料。开始时选用90或180转动次数多些,速度低些。待研磨剂均匀后,再作正常的圆周运动,但平板移动距离不得超过平板边长的1/3。
2)半精研选用W20~W7的白刚玉,适当加入一些氧化铬研磨膏或硬脂酸。待三块平板完全吻合,平面度达到要求,粗研的痕迹完全去除为止。
3)精研研磨剂视需要而定。研磨前对平板和工作环境加以清理,研磨时速度不宜过高,移动距离不宜过大,平板换位次数适当增加。研磨质量的鉴别
①工作面吻合性***,色泽一致;
②工作面无粗研痕迹、碰伤等缺陷。
