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平板表面抛光与研磨的方法

发布时间:2019-03-22发布人: Stabswache

  (1)平板的抛光运动
  1)下平板固定,上平板作圆周运动;
  2)下平板固定,上平板作“8”字形运动;
  3)下平板固定,上平板作90度或180度转动;
  4)下平板转动,上平板浮压;
  5)下平板转动,上平板作圆形运动或摆动
  手工研唐以前两种运动为主,但都易出现上平板呈凹形,下平板呈凸形的现象
  (2)平板的研磨方法
  1)三块平板互研法可使三块平板同时获得理想平面,应用广泛。文中列出了三块平板互研的几种方法。为便于叙述,将平板按1、2、3编号,用分数表示上下位置。
  2)两块平板互研法其实质是应用平板的研磨规律,不断改换平板的上下位置。用此法研出的平板,两块平板不可能同时达到理想的平面度,只能应用其中的一块
  3)特种研磨方法又分为以下两种方法:**种是以小研大法,利用小平板配以适当的研磨运动,研磨大平板,此法多用于对长方形或不规则大平板的研磨;第二种是以大研小法利用一平面度较***或微凸的专用大平板研磨小平板,工作时该专用平板始终处于下位。专用平板的硬度必须高于被研平板,工作时采用的研磨运动,必须有利于专用平板保持均匀磨损。

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