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　　浮动抛光是一种无接触的抛光方法,加工出的工件表面的平面度很高,没有端面塌边和变形缺陷。浮动抛光可用于计算机磁头的磁隙对置面、PCM薄膜盖基片的加工,通过选择合适的研磨剂和化学添加剂,可防止出现晶界差,即使是多晶体材料也能获得表面粗糙度为0.002ym的表面。浮动抛光法还适于加工高精度的光学零件。

　　浮动抛光的工作原理,它利用流体动力学原理使抛光器与工件浮离接触在抛光器的工作表面上做出了若干楔槽,当抛光机高速回转时,由于油楔的动压作用使工件或器浮起,其间的磨粒就对工件表面进行抛光。